超纯臭氧发生器的好处

超纯臭氧发生器是一台将臭氧气体液化并储存，并且能够连续供应高纯度臭氧气体的装置。由于其高纯度的臭氧水平，它可以作为半导体工艺中的氧自由基生成源。

高纯度：>80%；臭氧压力：<10，000帕

在低温下实现80%以上的臭氧利用率，而不会发生臭氧分解（1）。

温度和压力范围使臭氧具有较长的寿命。

减压下的纯臭氧是稳定的，非常适合真空工艺。

按需供应

按需供应所需量的纯臭氧。

传统臭氧发生器产生的低浓度臭氧需要恒定真空过程中臭氧的供应。

兼容真空工艺

原子能层积膜、表面改性、灰化和清洁在低温下是可能的（1）。

纯化学反应

化学过程无损伤，没有等离子体和紫外线等任何物理损伤非常适合需要低温（i）（例如低耐热性）的基片半导体、树脂和薄膜。

* 1低温：室温至150℃